Intel và ASML mở ra kỷ nguyên mới về công nghệ in thạch bản bán dẫn với TWINSCAN EXE: 5200

Intel đã tiết lộ kế hoạch tiếp tục phát triển công nghệ in thạch bản bán dẫn bằng cách mua hệ thống TWINSCAN EXE: 5200 của ASML. Là một hệ thống sản xuất khối lượng tia cực tím (EUV) cực lớn, cung cấp nhiều hơn hơn 200 tấm wafer trên mức sản xuất mỗi giờ.

Hai công ty Intel và ASML có mối quan hệ đối tác lâu dài và cả hai đều đạt được lợi ích từ việc phát triển hệ thống mới này, dự kiến sẽ bắt đầu vào năm 2025. Hứa hẹn sẽ tạo ra một kỷ nguyên mới về công nghệ in thạch bản bán dẫn trong tương lai. Cùng Khoserver tìm hiểu ngay nhé!

Intel thể hiện sự quan tâm tới công nghệ High-NA

Intel đã tiết lộ vào tháng 7 năm ngoái trong sự kiện Accelerated của công ty rằng họ dự định cung cấp công nghệ High-NA đầu tiên để thúc đẩy kế hoạch đổi mới bóng bán dẫn của mình. Intel đã tiếp tục thể hiện sự quan tâm đến công nghệ High-NA khi công ty là công ty đầu tiên mua hệ thống TWINSCAN EXE: 5000 trước đó vào năm 2018. Với việc mua mới từ công ty đối tác ASML, Intel tiếp tục phát triển sản xuất EUV High-NA, bắt đầu vào năm 2025.

>> Có thể bạn quan tâm: Dell PowerEdge R350 – Máy chủ tiêu chuẩn cho doanh nghiệp nhỏ

Chia sẻ của Martin van den Brink, Chủ tịch kiêm Giám đốc kỹ thuật ASML

Tầm nhìn và cam kết ban đầu của Intel đối với công nghệ EUV High-NA của ASML là bằng chứng cho việc theo đuổi không ngừng định luật Moore. So với các hệ thống EUV hiện tại, lộ trình EUV mở rộng sáng tạo của chúng tôi mang lại những cải tiến liên tục về công nghệ bán dẫn với mức độ giảm phức tạp, chi phí, thời gian chu kỳ và năng lượng mà ngành công nghiệp chip cần để thúc đẩy quy mô hợp lý trong thập kỷ tới.

TWINSCAN EXE: 5200 sẽ có khẩu độ số (NA) 0,55

Hệ thống EXE của ASML là một giai đoạn chuyển tiếp trong công nghệ EUV và có thiết kế quang học độc đáo, sở hữu tấm wafer nhanh hơn đáng kinh ngạc. Hệ thống TWINSCAN EXE: 5000 và EXE: 5200 có khẩu độ số (NA) 0,55, một mức tăng độ chính xác so với các máy EUV trước đó. Cho phép tạo ra sản phẩm có độ phân giải cao hơn, cho các phần tử bóng bán dẫn ngày càng ngắn hơn. Khẩu độ số của hệ thống, được hợp nhất với bước sóng được sử dụng, xác định thuộc tính có thể in nhỏ nhất.

>> Tham khảo thêm: CPU và GPU hiệu suất cao của Intel, AMD, NVIDIA sẽ tăng giá 20% vào năm 2022

Ann Kelleher, Phó Chủ tịch Điều hành kiêm Tổng Giám đốc, Phát triển Công nghệ Intel cho biết:

Trọng tâm của Intel là đi đầu trong công nghệ in thạch bản bán dẫn và chúng tôi đã xây dựng chuyên môn và năng lực EUV của mình trong năm qua. Hợp tác chặt chẽ với ASML, chúng tôi sẽ khai thác mô hình độ phân giải cao của High-NA EUV như một trong những cách chúng tôi tiếp tục Định luật Moore và duy trì lịch sử phát triển mạnh mẽ của chúng tôi đến từng hình học nhỏ nhất.

EUV 0.55 NA đã được phát triển để cho phép nhiều nút (nodes) trong tương lai, bắt đầu từ năm 2025. Tại ngày hội nhà đầu tư năm 2021, ASML đã thông báo về đường lối EUV của mình và tiết lộ rằng công nghệ High-NA dự kiến ​​sẽ bắt đầu hỗ trợ sản xuất sản xuất bắt đầu từ năm 2025. Tuyên bố này hiện nay đã cho thấy sự đồng nhất với kế hoạch của hai công ty.